正确答案: O/W型乳剂基质可称为“冷霜” HLB值为l5~18的一价皂易形W/O型的乳剂基质 O/W型乳剂基质含水量大,无需使用保湿剂
CDE
题目:关于软膏剂基质的错误表述为( )。
延伸阅读的答案和解析:
本题考查药物制剂的稳定性影响因素。药物制剂的稳定性实质上是药物制剂在制备和贮藏期间是否发生质量变化的问题。影响因素有:a.处方因素,包括pH的影响;广义酸碱催化;溶剂影响;离子强度的影响;表面活性剂的影响;处方中辅料的影响。b.环境的影响,包括温度、光线、空气中的氧、金属离子、湿度和水分、包装材料的影响。对于零级反应,它的速度与速率常数有关,与反应物浓度无关。经典恒温法一般用于新药的申请。