正确答案:

局部致龋因素消失

B

题目:静止龋产生的条件为

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延伸阅读的答案和解析:

  • [单选题]限制性核酸内切酶是一种
  • DNA序列特异的内切酶

  • 解析:限制性核酸内切酶是一类能识别双链DNA分子中特殊核苷酸序列并在该位点上切割DNA的酶,这些位点称为识别序列。限制性核酸内切酶可将DNA切成长度不同的片段,这依赖于酶识别位点在该DNA分子中重复的次数。

  • [单选题]有利于改善复合树脂热膨胀系数应首选
  • 硅酸铝锂


  • [单选题]生物膜组成成分是
  • 磷脂、胆固醇和不饱和脂肪酸


  • [单选题]以下描述不符合骨肉瘤表现的是
  • 病变中心可见"斑片状"、"日光样"高密度影

  • 解析:"日光样"高密度影存在于病变边缘区。

  • [单选题]龋病病因是
  • 细菌


  • [单选题]口腔科X线片中,最阻射X线的组织是
  • 釉质


  • [单选题]夜盲症是由于缺乏
  • 维生素A


  • [单选题]孕34周,心脏改变
  • 心悸,气促,心界稍扩大,心尖区可闻及Ⅱ级柔和收缩期杂音


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