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可摘局部义齿支架打磨抛光的要点不正确的是( )

来源: 志学网    发布:2023-02-28     [手机版]    
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导读

正确答案:B。A.由粗到细 B.先打磨再喷砂压力适当 C.注意降温 D.打磨头的旋转方向应与卡环、支托走向一致 E.压力适当 更多口腔修复副高级职称考试的考试资料及答案解析请访问志学网卫生职称考试栏目。

1. [单选题]可摘局部义齿支架(removable partial denture (rpd) framewo)打磨抛光的要点不正确的是( )

A. 由粗到细
B. 先打磨再喷砂压力适当
C. 注意降温
D. 打磨头的旋转方向应与卡环、支托走向一致
E. 压力适当


2. [单选题]理论上,对于单颌覆盖义齿,最佳的覆盖基牙数目是

A. 1~2个
B. 2~3个
C. 2~4个
D. 3~4个
E. 4~5个


3. [多选题]属于平息内风的方剂是( )

A. 消风散
B. 大秦艽汤
C. 镇肝熄风汤
D. 天麻钩藤饮
E. 大定风珠


4. [单选题]上下颌双侧后牙缺失,排牙时应以哪个关系位置作标准

A. 第一双尖牙
B. 第二双尖牙
C. 第一磨牙
D. 第二磨牙
E. 第三磨牙


5. [单选题]制作功能良好的固定义齿首要条件应是

A. 基牙条件好
B. 全冠为固位体(retainer)
C. 咬合关系正常
D. 缺牙间隙(edentulous space)正常
E. 以上均是


6. [单选题]固定局部义齿的组成包括( )

A. 固位体(retainer)
B. 桥体
C. 连接体
D. 卡环
E. ABC


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